Lefildenews

MUNICH, Allemagne, 18 sept. 2019 (GLOBE NEWSWIRE) -- Advantest Corporation (TSE: 6857), le plus grand producteur d’équipements de test de semi-conducteurs, présentera son système de lithographie à faisceau d’électrons F7000 et ses équipements de métrologie dans le hall A, stand n° 7 lors du 45^èmesalon dédié aux microtechniques et nanotechnologies (MNE) qui aura lieu du 23 au 26 septembre à l’hôtel Rodos Palace de Rhodes, en Grèce.

De retour en Grèce après onze ans, la Conférence MNE est le principal événement international axé sur les techniques de micro/nanofabrication et de fabrication, ainsi que sur les applications des micro/nanostructures, dispositifs et microsystèmes fabriqués dans les secteurs de l’électronique, la photonique, l’énergie, l’environnement, la chimie et les sciences de la vie. La conférence comprend quatre sessions parallèles, des conférences plénières, des présentations sur invitation, des présentations orales et par affiches, ainsi qu’une exposition commerciale.

Sur son stand, Advantest présentera son système de lithographie F7000 EB, qui offre une résolution et une capacité de traitement élevées, ainsi que la possibilité de créer des nanopatterns (motifs à l'échelle nanométrique) très précis et lisses sur des plaquettes pour le nœud technologique 1xnm.  Sa technologie de projection de caractères et d’écriture directe en fait un outil de conception bien adapté à la R&D et au prototypage, ainsi qu’une solution pour les lignes de production LSI, dans lesquelles des dispositifs de type petits lots multiples sont produits.

Le portefeuille de solutions nanotechnologiques d’Advantest comprend plusieurs autres produits de métrologie, y compris une famille de microscopes électroniques à balayage de métrologie multi-visions (MVM-SEM^®) qui permettent la réalisation, en temps réel, de mesures et d'imagerie 3D de plaquettes et de photomasques.  Introduit cette année, le système de masque E3650offre la meilleure capacité de mesure des formes du secteur et le débit le plus élevé pour des applications telles que les photomasques avancés, les photomasques EUV et les modèles NIL.  Le microscope électronique à balayage (DR-SEM) E5610 de la société est conçu pour examiner et classer les très petits défauts des photomasques et des blancs de nouvelle génération.  Il offre une capture d’image hautement stable et entièrement automatique, ainsi qu’une stabilité opérationnelle et une fiabilité à long terme essentielles pour les analyses de production de masques critiques.

Suivez Advantest sur Twitter @Advantest_ATE.  Pour plus d’informations, rendez-vous sur visite www.advantest.com.

À propos d’Advantest Corporation
Société technologique de classe mondiale, Advantest est le plus grand producteur d’équipements de test automatique (ATE) pour le secteur des semi-conducteurs et un important fabricant d’instruments de mesure employés dans la conception et la production de systèmes et d’instruments électroniques.  Ses systèmes et produits à la pointe de la technologie sont intégrés dans les lignes de production des semi-conducteurs les plus sophistiqués au monde.  La société se focalise également sur la recherche et le développement pour les marchés émergents qui bénéficient des avancées des technologies térahertziennes et des nanotechnologies, et a lancé des microscopes électroniques à balayage de métrologie multi-visions essentiels à la production de photomasques, ainsi que des outils révolutionnaires d’analyse et d’imagerie 3D.  Fondée à Tokyo en 1954, Advantest a établi sa première filiale en 1982, aux États-Unis, et compte maintenant des filiales dans le monde entier.  De plus amples informations sont disponibles sur le site www.advantest.com.

ADVANTEST CORPORATION
3061 Zanker Road
San Jose, CA 95134, États-Unis
Judy Davies
Judy.davies@advantest.com